PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g·...

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PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:

熔点/℃

沸点/℃

密度/g·mL-1

其它

黄*

44.1

280.5

1.82

2P+3Cl2(少量) PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g·... 2PCl3

2P+5Cl2(过量) PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g·... 第2张 2PCl5

PCl3

-112

75.5

1.574

遇水生成H3PO3和HCl,

遇O2生成POCl3

如图是实验室制备PCl3的装置(部分仪器已省略)。

PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g·... 第3张(1)仪器乙的名称是__________。

(2)实验室用二氧化锰和浓盐*反应制备Cl2

的离子方程式_____________________。

实验过程中,为减少PCl5的生成,应控

制______________。

(3)碱石灰的作用:一是防止空气中的水蒸气进入而使PCl3水解;二是吸收多余的Cl2,防止污染环境。写出PCl3遇水反应的化学方程式_____________________。

(4)向仪器*中通入干燥Cl2之前,应先通入一段时间CO2排尽装置中的空气,其目的是__________________________________________。

(5)测定产品中PCl3纯度的方法如下:迅速称取4.100 *品,水解完全后配成500 mL溶液,取出25.00 mL加入过量的0.1000 mol·L-120.00 mL*溶液,充分反应后再用0.1000 mol·L-1 Na2S2O3溶液滴定过量的*,以淀粉溶液作指示剂,终点时消耗12.00 mL Na2S2O3溶液。已知:H3PO3+H2O+I2=H3PO4+2HI;I2+2Na2S2O3=2NaI+Na2S4O6;假设测定过程中没有其它反应。滴定终点的现象是:

     __________________________________________________________________。

根据上述数据,该产品中PCl3(相对分子质量为137.5)的质量分数为_______。

【回答】

(1)冷凝管(或冷凝器)。

(2)MnO2+4H++2Cl- PCl3是*的常见*化物,可用于半导体生产的外延、扩散工序。有关物质的部分*质如下:熔点/℃沸点/℃密度/g·... 第4张 Mn2++Cl2↑+2H2O、*气通入的速率(或流量) 。

(3)PCl3+3H2O= H3PO3+ 3HCl        (4)防止O2和水蒸气与PCl3反应

(5)最后一滴标准液滴入时,溶液褪*且半分钟内不恢复(或由蓝*变无*)、93.90%

知识点:非金属元素的单质及其化合物

题型:实验,探究题

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