双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中...

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双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:

双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中...

已知:

双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第2张

双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第3张+HCl

(1)B分子中含有的官能团名称是___。

(2)该CPPO结构中有___种不同化学环境的*原子。

(3)反应④的化学方程式是___。

(4)在反应①~⑧中属于取代反应的是___。

(5)C的结构简式是___。

(6)写出F和H在一定条件下聚合生成高分子化合物的化学方程式___。

(7)资料显示:反应⑧有一定的限度,在D与I发生反应时加入有机碱三乙*能提高目标产物的产率,其原因是___。

【回答】

【*】    (1). 羟基    (2). 3    (3). CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br    (4). ②③⑤⑧    (5). 双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第4张    (6). 双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第5张+(2n-1)H2O    (7). 有机碱三乙*能跟反应⑧的生成物HCl发生反应,使合成双草*酯的平衡右移

【解析】

【详解】根据流程图可知,反应①为CH2=CH2与HCl发生加成反应生成A,A为CH3CH2Cl,A发生水解反应生成的B为CH3CH2OH。乙烯与溴发生加成反应生成的E为BrCH2CH2Br,G能与银氨溶液反应,则E发生水解反应生成的F为HOCH2CH2OH,F发生氧化反应生成的G为OHC﹣CHO,G发生银镜反应后*化,则H为HOOC﹣COOH,H发生信息①中的取代反应生成的I为ClOC﹣COCl。B与C反应得到D,D与I发生信息②中的反应得到CPPO,由CPPO的结构可知,D为双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第6张,则C为双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第7张

(1)由上述分析可知,B为CH3CH2OH,分子中含有的官能团名称是:羟基,故*为:羟基;

(2)由CPPO的结构简式可知,CPPO分子中有3种不同化学环境的*原子,故*为:3;

(3)反应④是乙烯与溴发生加成反应,反应化学方程式是CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br,故*为:CH2=CH2+Br2→BrCH2﹣CH2Br;

(4)在反应①~⑧中,①④属于加成反应,⑥⑦属于氧化反应,②③⑤⑧属于取代反应,故*为:②③⑤⑧;

(5)由上述分析可知,C的结构简式是双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第8张,故*为:双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第9张

(6)HOCH2CH2OH与HOOC﹣COOH发生所缩聚反应生成高分子化合物,反应方程式为:双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第10张+(2n-1)H2O,故*为:双草*酯(CPPO)是冷光源发光材料的主要成分,合成某双草*酯的路线设计如下:已知:①②+HCl(1)B分子中... 第11张+(2n-1)H2O;

(7)反应⑧有一定的限度,D与I发生取代反应生成CPPO和HCl,则加入有机碱三乙*能提高目标产物的产率的原因是:有机碱三乙*能跟反应⑧的生成物HCl发生反应,使合成双草*酯的平衡右移,故*为:有机碱三乙*能跟反应⑧的生成物HCl发生反应,使合成双草*酯的平衡右移。

知识点:烃的衍生物单元测试

题型:推断题

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