“光刻工艺”可以造什么句，光刻工艺造句

最终通过yield的比较说明抗反*层在现代光刻工艺中的作用。

本文的模拟结果不仅能为高能电子束光刻工艺优化曝光条件、降低邻近效应提供理论指导，而且能为进一步的邻近效应的校正提供更精确的数据。

在一块玻璃基板上制有透明的条纹电极，条纹电极用光刻工艺制作，而另一块玻璃基板上则为连续电极。

通过对光刻工艺过程的研究，可为较好地控制正*光刻胶面形，制作微机械、微光学器件提供了参考依据，对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义。

套准精度-在光刻工艺中转移图形的精度。

在厚胶光刻工艺中重点解决了胶膜厚度的均匀*、胶膜与衬底的粘附*、大厚度差胶层的曝光、显影条件等的优化问题。