三*化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+...
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三*化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是（ ）
3是氧化剂，H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子
3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕*气体
【回答】
D
知识点：氧化还原反应
题型：选择题
